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- 2 如何選擇合適的石墨坩堝配料比例
- 3 石墨坩堝的配料與比例
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- 5 石墨坩堝的制作步驟
- 6 熔金銀高純石墨坩堝的成型加工
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- 9 怎樣制作石墨坩堝
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- 11 熔金銀高純石墨坩堝如何加工
- 12 熔金銀高純石墨坩堝的原料準備
真空爐石墨連接片表面處理的常用方法
發布作者:jcadmin 發布時間:2024年03月29日
真空爐石墨聯接片表面處理的常用方法
1.化學鍍
化學鍍是一種經過化學反應在真空爐石墨聯接片表面堆積金屬或合金的方法。該方法能夠在石墨表面構成細密、均勻的金屬膜,跋涉石墨的耐腐蝕、抗氧化和導電功用。常用的化學鍍液包含鎳、鈷、銅等。
2.電鍍
電鍍是經過電解的方法將金屬或合金堆積在真空爐石墨聯接片表面。該方法能夠制備出厚度均勻、附著力強的金屬涂層,跋涉石墨的導電功用和裝飾功用。常用的電鍍資料包含金、銀、鎳等。
3.噴涂
噴涂是將涂料經過噴槍或噴涂設備噴涂在真空爐石墨聯接片表面,構成一層均勻的涂層。該方法能夠制備出具有不同顏色、光澤和紋理的涂層,跋涉石墨的美麗性和耐腐蝕功用。常用的噴涂資料包含油漆、粉末涂料等。
4.滲碳
滲碳是將真空爐石墨聯接片在高溫下與碳源觸摸,使其表面進入碳元素,然后跋涉其硬度和耐磨功用。該方法能夠跋涉石墨表面的硬度和耐磨損功用,適用于需求接受沖突和磨損的石墨制品。
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