高純石墨塊生產(chǎn)廠家在填好填充料的毛坯下方，通入石墨管，用以導(dǎo)入鹵素氣體。在填充焦炭比較松懈的部分，可使氣體均勻散布。揮發(fā)掉的鹵化物，從C部分上升到爐子的上方，經(jīng)過爐子上的風(fēng)斗，被送入洗滌器，洗凈后排人大氣。在凈化工序中，溫度對(duì)凈化效果的影響最為明顯，盡管氣體散布是均勻的，但凈化溫度與時(shí)刻的聯(lián)絡(luò)如果不適當(dāng)，也相同不能前進(jìn)凈化效果。用氣體凈化時(shí)的溫度和硼含量的聯(lián)絡(luò)示于圖。
    反應(yīng)堆用石墨的純度，一般以化學(xué)分析法測(cè)定。這雖是廣為應(yīng)用的規(guī)范辦法，但石墨中混入極微量的雜質(zhì)，也會(huì)使中子吸收截面發(fā)生委化，所以還有使用反應(yīng)堆非破壞性地測(cè)定試料的歸納純度的辦法。開始用Hanford305試最推（語），所開創(chuàng)的辦法是用倒時(shí)差（DIH1)標(biāo)明的，這便是把規(guī)范純度的試片置于實(shí)驗(yàn)推的中心部位，測(cè)出抵達(dá)臨界點(diǎn)的時(shí)刻，并把測(cè)得時(shí)刻的倒數(shù)作為4，然后把和規(guī)范試片同一尺度的未測(cè)片放入測(cè)定，求出抵達(dá)臨界點(diǎn)的時(shí)刻（1)，求出的倒數(shù)d。d、d兩者之差為DIH。即：
0H =d-4.(=+-1)
    財(cái)為正值，并且此值越大，標(biāo)明其純度比規(guī)范試料越高。以高純石墨塊生產(chǎn)廠家作為規(guī)范試料時(shí)，D1與化學(xué)分析值的對(duì)應(yīng)關(guān)類系見表3i0。7和吸收截面。.之間成直線聯(lián)絡(luò)。對(duì)上述實(shí)驗(yàn)堆（HTR）的熱中子(200mw/s），每個(gè)碳原子的均勻吸收截面和DIH之間的聯(lián)絡(luò)可用下式某示。g.(2000m/s)=(4.47±0.04-0.733D/740.03）×0.1kPa。高純石墨塊生產(chǎn)廠家的兩種
    此外，純度對(duì)熱中子擴(kuò)散距離L（標(biāo)明中子由被減速變成熱中子到被吸收所移動(dòng)的均勻距離的測(cè)量）有很大影響，所以在石墨塊一端刺進(jìn)的中子源釋放出的中子在石墨內(nèi)的散布，用鋼放射化等辦法即可測(cè)定，所測(cè)得的散布狀況，使用初等擴(kuò)散理論代入給定的公式，確認(rèn)必要的系數(shù)，求出L之后，即可得出純度的方針。
'=1/[3Ea·Es(1-A)]
且
L=√D/Ea=(A/dNo)·√1/[3o.(1-u.)I·1/o.
    式中，Ea=dNo·o./A(微觀吸收截面)；Es=dNo·a，/A(微觀散射截面)；A。=2/3A(散射角余弦的均勻值)；D=1/[3-(1-μ。）Es](擴(kuò)散系數(shù)）；A為原子核質(zhì)量（石墨為12.01）；No為阿伏伽德羅數(shù)(6.024×10）；o，為微觀散射截面[石墨為（4.7±0.2）×0.1MPa]；o。為微觀吸收截面；d為石墨的密度。核反應(yīng)堆用石墨的一般特性示于表。在日本，JIS規(guī)范給堆用石墨制定了等級(jí)，示于表。材料的實(shí)驗(yàn)，根據(jù)JISR7222(高純炭材料的物理實(shí)驗(yàn)辦法）和JISR7223(高純炭材料的化學(xué)分析法)所定辦法進(jìn)行。